Пятиосное устройство нанесения материалов с наклоном и поворотом от компании Nordson ASYMTEK

Компания Nordson ASYMTEK представляет новое программируемое устройство нанесения жидких материалов с наклоном и поворотом, в котором предусмотрено автоматическое управление по пяти осям вместо трех. Дополнительные режимы наклона по осям X и Y позволяют наносить материал при вертикальном расположении и при изменяемом угле наклона вдоль всех четырех сторон изделия, а также вверх по сторонам подложки или компонента, в особенности при применении 3D-корпусов, поддерживая высокую точность и скорость. Устройство позволяет наносить подзаливку, заливочные материалы и жидкие покрытия вокруг компонентов с высокой подложкой на жестких и гибких печатных платах, на платах с высокой плотностью компоновки. При этом обеспечивается точное нанесение материалов на разные стороны корпусов мобильных устройств последнего поколения и модулей камер за счет перемещения наконечника ближе к необходимой области, такой как, например, вертикальная стенка. Устройство может наносить материалы в сложные места и узкие зазоры, имеющиеся в современных корпусах компонентов.

При работе с 3D-компоновкой возможность программирования наклона и поворота позволяет пользователям задавать высоту верхнего слоя штабелирования кристаллов, после чего наносить материал вдоль всех четырех сторон чуть ниже верхней поверхности так, чтобы достаточное количество жидкости достигло верха штабеля, но не затекло на верхнюю поверхность.

Нанесение сверху вниз может снизить количество избыточного материала, необходимого при обычном вертикальном нанесении, уменьшая таким образом смачиваемую зону вокруг штабеля кристаллов.
Управление системой нанесения материалов Spectrum II от компании Nordson ASYMTEK с интегрированной функцией наклона и поворота осуществляется ПО Fluidmove, что обеспечивает автоматическое приведение в действие наклона и поворота в процессе работы. В режиме наклона нанесение осуществляется под углом в пределах ±30° с разрешением 1° по обеим осям X и Y.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *